Nowe kursy

Cel zajęć

Celem przedmiotu jest uzyskanie przez studenta wiedzy z zakresu podstaw geometrii wykreślnej i zapisu konstrukcji (rysunku technicznego). Studenci powinni samodzielnie opanować wskazany system CAD, który zostanie zaprezentowany na zajęciach seminaryjnych. Uzyskana wiedza ma umożliwiać przede wszystkim czytanie rysunku technicznego maszynowego i schematów technologicznych.

Wykład:
Graficzne odwzorowanie elementów przestrzennych na płaszczyźnie: rzutowanie jako podstawowa forma odwzorowań przestrzennych na płaszczyźnie, odwzorowania przestrzenne w rzutach prostokątnych, elementy przynależne i równoległe w rzutowaniu prostokątnym, prostopadłość prostych i płaszczyzn. Przekroje i przenikanie obiektów płaskich i przestrzennych: budowa brył przestrzennych stojących na rzutniach, elementy wspólne, przekroje wielościanów płaszczyznami rzutującymi, przekroje i przenikanie wielościanów. Odwzorowania powierzchni obrotowych w rzutach prostokątnych: rzuty punktów leżących na powierzchniach brył obrotowych, przekroje brył obrotowych płaszczyznami rzutującymi. Zapis konstrukcji: pojęcia podstawowe, zasady zapisu konstrukcji, rodzaje zapisu konstrukcji, formaty arkuszy i podziałki rysunkowe, metody odwzorowania graficznego zapisu postaci konstrukcyjnej i układu wymiarów. Graficzny zapis połączeń konstrukcyjnych: połączenia rozłączne, połączenia nierozłączne. Rysunki złożeniowe i wykonawcze. Komputerowy zapis konstrukcji: komputerowe metody odwzorowań graficznych, graficzny program komputerowy CAD, Wybrane symbole graficzne stosowane w chemii i technologii Chemicznej.

Seminarium:
Inventor, tworzenie własnych szablonów, szablon rysunku ISO-PL idw, Szablon modelu części, szablon modelu zespołu; Podstawy interfejsu użytkownika, uaktywnienie istniejącego projektu, uaktywnienie projektu, elementy okna programu, Przeglądanie obiektów; Wprowadzenie do projektowania części: parametryczność, model matematyczny konstrukcji, model geometryczny konstrukcji, parametry i zmienne decyzyjne, przykłady parametrów, obiekty 3D, obiekty 3D w modelowaniu 2D; Pojęcia związane z techniką modeli pochodnych, typowy proces projektowania części, modelowanie części; Redagowanie dokumentacji; Modyfikacja projektu z poziomu modelu lub rysunku; Parametryczne modelowania 2D, szkice i płaszczyzny szkicu, parametryczne płaszczyzny szkicu, definiowanie płaszczyzny szkicu; Operacje parametrycznego modelowania 2D; Sposoby modelowania, standardowe narzędzia i techniki modelowania, elementy klasycznych okien dialogowych, elementy okien dialogowych nowego typu; Proces pracy narzędzia (Workflow); Geometria wejściowa; Parametry operacji modelowania; Sposób modelowania; Właściwości zaawansowane; Algorytm definiowania profilu; Współdzielenie szkicu (Share Sketch); Współdzielenie elementów konstrukcyjnych; Wyciąganie profilem (Extrude); Element bazowy; Pozostałe elementy wyciągane; Wyciągnięcie typu do następnego (To Next); Wyciągnięcie typu do (To); Wyciągnięcie typu między (Between); Wyciągnięcie przelotowe; Ćwiczenia sprawdzające ; Obrót profilem (Revolve); Obrót o kąt (Angle); Obrót do następnego (To Next); Obrót pełny (Full); Zmiana kolejności operacji modelowania; Przeciąganie profilem (Sweep); Rozpinanie powierzchni (Loft) ; Żebra (Rib); Elementy wstawiane; Otwory: rodzaje i typy otworów, metody określania położenia otworów; Pliki definicji gwintów i otworów; Algorytm definiowania otworu: metoda koncentrycznie (Concentric), metoda liniowo (Linear), metoda ze szkicu (From Sketch); Redagowanie i edycja dokumentacji 2d części; typy plików dokumentacji, czynności wstępne ; tworzenie pliku rysunku; opcje aplikacji dotyczące rysunku; ustawienia dokumentu; szablony rysunku; stałe elementy rysunku edycja układu arkusza; edycja i-properties; styl obiektów w pliku rysunku standard rysunkowy; ustawienia ogólne standardu; dostępne style standardu; wartości domyślne obiektów; style główne i zależne; style logiczne i określone wprost; styl logiczny jak warstwa styl logiczny jak standard; warstwy; styl tekstu; styl wymiarowania; zarządzanie elementami standardu (stylami); dodatkowe elementy interfejsu; tworzenie nowego stylu w standardzie ćwiczenia; eksport i import elementów standardu ćwiczenia; podstawy tworzenia rzutów; tworzenie rzutu bazowego modelu; tworzenie podstawowych rzutów pochodnych

Głównym celem chemii bioorganicznej jest wykorzystanie zdobyczy chemii organicznej w celu tworzenia nowych biomolekuł lub modyfikacji już istniejących. Z drugiej strony biostereochemia obejmuje swoim zakresem - pojęcia stereochemiczne takie jak: stereoizomery, konfiguracja absolutna i względna, sposób przedstawiania stereoizomerów; poznanie przestrzennych uwarunkowań procesów biochemicznych i chemicznych; oddziaływania z obiektami docelowymi, m. in. enzymy, receptory komórkowe; zależność między budową przestrzenną a aktywnością biologiczną. Tematyka przedmiotu obejmuje wybrane zagadnienia dotyczące chemii związków pełniących istotną rolę w funkcjonowaniu organizmów żywych oraz w różnych stanach chorobowych.

W ramach przedmiotu będzie kontynuowane omawianie  nazewnictwa systematycznego, a także zwyczajowego kolejnych grup związków organicznych, takich jak aldehydy i ketony, kwasy karboksylowe, aminy, fenole, związki heterocykliczne oraz siarkoorganiczne. W następnej kolejności zostaną przedstawione metody otrzymywania, właściwości chemiczne m. in. w/w klas związków organicznych, ich zastosowanie oraz występowanie i rola w organizmach ożywionych.

W ramach przedmiotu zostaną przedstawione zagadnie z podstawy spektroskopii m. in. pojęcia promieniowania elektromagnetycznego, poziomów energetycznych w cząsteczce, absorpcji promieniowania, zastosowanie transformacji Fouriera w spektroskopii. Ponadto zostaną omówione podstawy spektroskopii magnetycznego rezonansu jąder ¹H, ¹³C i¹⁹F oraz spektroskopii w podczerwieni i elektronowej, a także spektrometrii mas. Dla wszystkich w/w technik zostanie  omówione wykorzystanie ich do ustalania struktury związków chemicznych.